崗位職責:
1.負責光刻掩模版的制造工藝開發(fā)與維護,管理從圖形數(shù)據(jù)到成品出貨的全流程。
2.優(yōu)化工藝參數(shù),監(jiān)控并提升掩模版的關(guān)鍵性能指標(如 CD 均勻性、缺陷控制等)。
3.負責相關(guān)設(shè)備的工藝配方調(diào)試與日常維護,及時解決生產(chǎn)中遇到的工藝與缺陷問題。
4.與光刻團隊協(xié)作,進行新材料的掩模版工藝適配性驗證。
任職要求:
1.本科及以上學歷,微電子、機械、物理、材料等相關(guān)專業(yè)。
2.具備 3 年以上掩模版制造工藝或半導體光刻相關(guān)經(jīng)驗。
3.有主流掩模版廠工作經(jīng)驗或熟悉 OPC、PSM 等先進技術(shù)者優(yōu)先。
4.了解掩模版檢測標準與流程,能適應潔凈室工作環(huán)境。
5.具備較強的質(zhì)量意識和分析解決問題的能力。